真空蒸发镀膜通过蒸发源加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面来获得薄膜的一种技术。被蒸发的物质被称为蒸镀材料。真空蒸发镀膜系统由真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。不过真空镀膜是存在优点和缺点，下面我们来分析一下它们的特点。
1、真空镀膜优点
表面有较好的金属质感且细腻。
颜色较水电镀可解决七彩色的问题如魔幻蓝、闪银灯；水电镀颜色较单调，一般只有亮银、亚银等少数几种。
基材材质选用范围广，如PC、ABS、PMMA，（水镀只能选择ABS、ABS+PC）。
通过镀铟锡可做成半透的效果，灯光可以从产品中发出来。
不污染环境。
2、真空镀膜缺点
蒸镀靶材受熔点限制，太高熔点的不易采用。
真空蒸镀不过UV油，其附着力较差，要保证真空蒸镀的附着力，均需后续进行特殊的喷涂处理。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积是真空镀膜最常用的方法。
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