溅射技术作为薄膜材料制备的主流工艺，其应用领域广泛，如集成电路、平板显示器、太阳能电池、信息存储、工具改性、光学镀膜、电子器件、高档装饰用品等行业。高纯溅射靶材则主要用于对材料纯度、稳定性要求更高的领域，如集成电路、平板显示器、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等行业。
20世纪90年代以来，随着消费类电子产品等终端应用市场的快速发展，溅射靶材的市场规模日益扩大，呈现高速增长的势头。随着信息技术的飞速发展，要求集成电路的集成度越来越高，电路中单元器件尺寸不断缩小。每个单元器件内部由衬底、绝缘层、介质层、导体层及保护层等组成，其中，介质层、导体层甚至保护层都要用到溅射镀膜工艺，因此溅射靶材是制备集成电路的核心材料之一。
近年来全球半导体市场仍然处于整体平稳上升阶段。随着智能手机、平板电脑、汽车电子等终端消费领域对半导体需求的持续增长将进一步提升半导体市场容量，预计全球半导体市场在未来将保持持续增长的态势。中国近几年来半导体产业有了快速发展，中国半导体产业的销售量多年来一直稳步上升。
中国溅射靶材约占封装测试材料市场的2.7%。全球半导体用溅射靶材销售额从10.1亿美元到11.4亿美元，年均复合增长率为3.07%，其中晶圆制造用溅射靶材年均复合增长率为3.68%，封装测试用溅射靶材年均复合增长率为5.87%，同比增长12.6%。
此外中国太阳能电池较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶、AZO靶等，纯度要求一般在99.99%以上，其中，铝靶、铜靶用于导电层薄膜，钼靶、铬靶用于阻挡层薄膜，ITO靶、AZO靶用于透明导电层薄膜。这些市场的迅速崛起为中国溅射靶材市场迎来更多市场机遇。
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