高纯溅射靶材产业在中国市场起步较晚，主要高纯溅射靶材生产企业均由国有资本和少数民营资本所投资。受到技术、资金和人才的限制，中国专业从事高纯溅射靶材的生产厂商数量仍然偏少，企业规模和技术水平参差不齐，多数中国厂商还处于企业规模较小、技术水平偏低、产业布局分散的状态，市场尚处于开拓初期，主要集中在低端产品领域进行竞争。
全球范围内以霍尼韦尔、普莱克斯、爱发科等资金实力雄厚、技术水平领先、产业经验丰富的跨国公司居于全球高纯溅射靶材行业的领导地位，属于溅射靶材的传统强势企业，凭借其强大的技术研发实力和市场影响力牢牢占据全球溅射靶材市场的绝大部分市场份额，主导着全球溅射靶材产业的发展，推动行业技术的进步。
高纯溅射靶材产业以美国、日本为代表的半导体厂商需要加强对上游原材料的创新力度，从而最大限度地保证半导体产品的技术先进性，因此，美国、日本的半导体工业相继催生了一批高纯溅射靶材生产厂商，并于当前居于全球市场的主导地位，在一定程度上，全球半导体工业的区域集聚性造就了高纯溅射靶材生产企业的高度聚集。
中国高纯溅射靶材市场经过数年的科技攻关和产业化应用，目前，中国高纯溅射靶材生产企业已经逐渐突破关键技术门槛，拥有了部分产品的规模化生产能力，整体实力不断增强，形成了以本公司、有研新材等为代表的专业从事高纯溅射靶材的生产商，正在经历高速发展时期，上升势头较快，打破了溅射靶材核心技术由国外垄断。并且在半导体芯片、液晶显示器和太阳能电池等市场开展与国际巨头开始竞争，依靠产业政策导向、产品价格优势已经在中国市场占有一定的市场份额，并逐步在个别产品或领域挤占国际厂商的市场空间。
另外高纯溅射靶材是伴随着半导体工业的发展而兴起的，属于典型的技术密集型产业，产品术含量高，研发生产设备专用性强。随着中国半导体、液晶显示器和太阳能电池等工业技术创新的不断深化，中国电子行业多溅射靶材不段提升，这更加促进中国溅射靶材的快速发展。
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