很多国家都非常重视溅射靶材的研发和生产，在很多溅射靶材核心技术上，很多国家都依靠国外进口。高纯溅射靶材行业是属于电子材料领域，溅射靶材和超高纯金属是电子材料的重要组成部分，溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节，其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。
高纯度乃至超高纯度的金属材料是生产高纯溅射靶材的基础，以半导体芯片用溅射靶材为例，若溅射靶材杂质含量过高，则形成的薄膜无法达到使用所要求的电性能，并且在溅射过程中易在晶圆上形成微粒，导致电路短路或损坏，严重影响薄膜的性能。
通常情况下，高纯金属提纯分为化学提纯和物理提纯，为了获得更高纯度的金属材料，最大限度地去除杂质，需要将化学提纯和物理提纯结合使用。在将金属提纯到相当高的纯度后，往往还需配比其他金属元素才能投入使用，在这个过程中，需要经过熔炼、合金化和铸造等步骤：通过精炼高纯金属，去除氧气、氮气等多余气体；再加入少量合金元素，使其与高纯金属充分结合并均匀分布；最后将其铸造成没有缺陷的锭材，满足生产加工过程中对金属成份、尺寸大小的要求。
可以说高纯溅射靶材产业链是电阻材料领域的核心，没有高纯溅射靶材的发展，电子材料很多领域都会受到影响，甚至导致其他上游行业举步维艰。
新时代，新技术层出不穷，我们关注，学习，希望在未来能够与时俱进，开拓创新。